化学气相沉积

公司已掌握化学气相沉积法CVD制备石墨烯薄膜技术，致力于研发和生产大面积高品质石墨烯薄膜以及石墨烯应用产品。闽烯科技长期跟踪和研究石墨烯领域的发展趋势和国际最新技术，对国内外的技术水平有非常精准的把握，在石墨烯CVD制备技术及应用领域已经处在国际领先水平。闽烯科技正致力于成为全世界一流的石墨烯企业，为科技和产业发展提供无限可能。

石墨烯薄膜是由单层或多层石墨烯构成的薄膜，可细分为单晶薄膜和多晶薄膜。单晶薄膜可用于制造集成电路，但目前尚未成功开发出单晶薄膜的工业化合成方法；多晶薄膜则有望在3-5年时间内实现产业化应用，可替代氧化铟锡（ITO）导电玻璃用于制造触摸屏。

针对高品质石墨烯薄膜的CVD制备与具体应用，课题组建立和发展了石墨烯单晶和薄膜的结构精确调控的多种CVD生长方法，并率先实现了4英寸无褶皱石墨烯单晶晶圆、大面积石墨烯薄膜的连续批量制备和绿色无损转移，研制了超级石墨烯玻璃、旋转双层石墨烯光电器件和单晶石墨烯PN结光电探测器件。

2014年Google Scholar的统计显示，李雪松作为第一作者发表在2009年《科学》上的关于石墨烯制备的文章，在所有同期刊文章中引用次数排名第二，在所有发表在《科学》和《自然》（Nature）的文章中排名第三。这一发明还获得了美国半导体研究联盟（Semiconductor Research Corporation）“发明家成就奖”、被《科学》列为“2009年重大科技突破”之一，并且在2010年诺贝尔奖获奖演讲中被重点引述。

为了降低成本，为了完全自主生产，何利民首次大胆地采用了国产铜箔，通过生产前处理工艺使铜箔表面达到生产要求，并在其表面成功制备出高质量的石墨烯膜，这项改进，大大降低了石墨烯膜的生产成本，迈出了低成本生产的重要一步。

如果说利用CVD法制备石墨烯是一个难点，那么，把微观的石墨烯做宏观，更是难上加难。工艺如何控制？模具怎么设计？大片的膜能否连续生长？大尺寸石墨烯能否完整转移……这都是摆在何利民和他的团队面前的难题。

2011年，何利民所在的团队从国外引进一台先进的化学气相沉积(CVD)设备，引进该设备的初衷主要是用于叶片等的内腔涂层涂镀。在一次阅读文献时，何利民偶然发现，石墨烯材料的制备过程可以利用CVD设备来实现！如果能利用自己的设备成功制备出性能优异的石墨烯材料，那将在新的技术革命中成为领头羊！想到这一点后，他激动得夜不能寐。