CVD

  • 天津大学胡文平、耿德超团队AM:大尺寸二维单晶材料在铜基底上的可控成长

    首先,文章概述了铜作为二维单晶材料生长催化剂的独特之处;然后分别展示了不同种类铜表面上石墨烯和六方氮化硼(h-BN)二维晶体的大尺寸生长。随后进一步揭示了二维单晶的生长机理,为深入研究晶体生长动力学提供了依据。最后作者也对目前二维单晶工业化大规模生产的相关问题提出了自己的独到见解,并展望了其广阔的发展前景。

    2020年11月23日 科研进展
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  • 刘忠范院士团队《ACS Nano》:高导电、高质量的氮掺杂垂直取向的石墨烯薄膜

    北京大学刘忠范院士和张艳锋研究员团队通过使用射频等离子体增强化学气相沉积(rf-PECVD),在高硼硅玻璃衬底上生长了高质量的垂直取向石墨烯(VG)薄膜。

    2020年11月23日 科研进展
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  • 金属所任文才团队PNAS:增透掺杂法同步提升柔性石墨烯透明导电膜的电导与透光率

    作者发展了一种基于光电共调制原理的增透掺杂策略,破解了同步提升柔性石墨烯薄膜电导和透光率的难题,从而获得了创纪录的高电/光导率比。采用这种高性能石墨烯柔性薄膜作为透明阳极,成功实现了柔性绿光OLED器件发光效率的大幅提高。其结果表明,增透掺杂为发展高性能柔性石墨烯透明导电薄膜开辟了新途径,也为基于其它碳材料和二维材料的柔性透明导电薄膜研究提供了有益借鉴。

    2020年11月4日 科研进展
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  • AM: 宏观自组装生长大面积单晶石墨烯

    有鉴于此,苏州大学Mark H. Rümmeli 教授和宾夕法尼亚州立大学Slava V. Rotkin等人,研究了通过化学气相沉积(CVD)在连续的多晶石墨烯层(Stranski–Krastanov(SK)生长)上形成的薄片。展示了在多晶石墨烯初始基层的毫米面积上的SK生长过程中,次级石墨烯畴核化后普遍存在的显著的自对准现象,即在多晶衬底上形成大面积的单晶石墨烯。

    2020年9月24日
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  • 刘忠范院士&彭海琳Angew:冷壁化学气相沉积方法用于石墨烯的超净生长

    化学气相沉积(CVD)以其良好的可控性和均匀性成为工业化生产石墨烯薄膜的一种极具吸引力的方法。然而,在传统的热壁CVD系统中,CVD制备的石墨烯薄膜在高温生长过程中由于气相反应而受到表面污染,污染物主要是无定形碳。

    2020年6月16日
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  • 鼓足干劲只争朝夕 砥砺奋进不负韶华 镇海人才工作考核全市第二

    环境好,则人才聚、事业兴。位于中官路创业创新大街区域的宁波柔碳电子科技有限公司,在汪伟博士带领下,已建成半米宽幅的石墨烯薄膜卷对卷中试生产线,成为全球首家实现大宽幅石墨烯薄膜卷材生产的企业。

    2020年4月27日
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  • 榆林首家石墨烯产业项目落户锦界

    兴汉澜墨石墨烯粉体项目总投资10020万元,占地33亩,首期单条生产线年产石墨烯300吨,二期扩能后实现年产1000吨。主要建设内容为石墨烯生产车间、石墨烯提取车间、中心控制室、实验楼及仓储设施等,目前已完成厂房工程建设,预计年底建成试运行。

    2020年4月6日
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  • 两篇Nature来相遇:一篇来自南京大学,一篇破解半个多世纪争议!

    CVD是生长高品质石墨烯的重要方法,已经发展了十年之久。问题在于,石墨烯与生长基地之间结合牢固,导致往往不可避免地产生大量褶皱,极大地影响了石墨烯的最终应用效果。那么,这些褶皱到底对石墨烯性能有多大影响?能否做出没有褶皱的石墨烯呢?

    2020年1月12日 科研进展
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  • 我科学家成功研制超平整石墨烯薄膜

    据悉,该成果所涉及的化学气相沉积方法(CVD)生长石墨烯,是目前制备大面积、高品质单晶晶粒或者薄膜的最主要方法。然而,由于石墨烯与基质材料能够产生强耦合作用,使得石墨烯在生长过程中会形成褶皱。这一现象严重限制了大尺度均一薄膜的制备,阻碍着二维材料的进一步发展应用。

    科研进展 2020年1月10日
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  • 南京大学最新Nature: 质子辅助生长用于高质量石墨烯的制备

    众所周知,通过化学气相沉积(CVD)方式生长的石墨烯薄膜具有独特的理化性质,因此在柔性电子学、高频晶体管等领域具有巨大的应用前景。然而,由于石墨烯与基质材料能够产生强耦合作用,使得石墨烯在生长过程中会形成褶皱。这一现象严重限制了大尺度均一薄膜的制备,阻碍着二维材料的进一步发展应用。

    2020年1月9日 科研进展
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