化学气相沉积

  • 塔塔钢铁公司开发出一种独特的少层rGO薄膜材料

    塔塔钢铁公司(Tata Steel)与其班加罗尔CeNS的合作者开发了一种新产品,即rGO的少层薄膜。该公司现在开始大规模生产这些薄膜,并将其提供给应用开发人员。

    2022年1月12日
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  • 哈工大《Energy Technol》:炭黑/垂直石墨烯/MnO2纳米片复合颗粒,用于高性能超级电容器

    在改性炭黑上生长MnO2纳米片后,获得的纳米复合材料具有高比电容、速率性能和循环稳定性。组装的对称超级电容器在181W kg -1的功率密度下获得54Wh kg -1的高能量密度。系统的实验研究表明,垂直石墨烯纳米片对炭黑的表面改性具有优异的性能优势,从而提高了整个电极的导电性、热稳定性和孔结构。这种方法对于开发高性能超级电容器的新材料具有很大的前景。

    2022年1月12日 科研进展
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  • 北京大学刘忠范院士团队Adv. Sci.:用于柔性红外伪装的自支撑石墨烯织物薄膜

    基于这种新型FS-GFF,本文研究团队制作了一种独特的可调红外伪装柔性纺织器件。得益于这种新兴FS-GFF的freestanding特性,该可调红外伪装器件(AIC)比其他报道的AIC器件相比,可以很容易地转移到任何形状的目标上,操作也很方便。

    2022年1月12日 科研进展
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  • 新的CVD策略拓宽了3D石墨烯的工业应用

    在这项研究中,通过使用FBCVD方法进行热处理,创建了具有新纳米结构的3DGN。利用流化床不规则的温度曲线和快速运输机理,制备了核壳结构SiC-石墨烯纳米级复合材料.SiC@graphene纳米级复合材料用于创建独特的3D石墨烯纳米结构,具有交织的石墨烯纳米带和连接的石墨烯壳。3DGN作为Li-S电池的电极效果很好,具有更大的硫负载,更高的放电容量,出色的循环性能和良好的效率。

    2022年1月5日 科研进展
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  • 刘忠范院士团队 ACS Nano:A3尺寸石墨烯单晶薄膜的外延生长

    为此,北京石墨烯研究院(BGI)通用石墨烯薄膜课题组从大尺寸Cu(111)单晶箔材衬底制备、石墨烯外延取向控制两个方面开展研究,揭示了铜晶粒长大过程中晶界角度对晶界迁移的作用,发展了强织构诱导的Cu(111)异常晶粒长大技术,实现了A3 (0.42×0.3m2)尺寸单晶Cu(111)箔材的制备;与中国科学技术大学李震宇教授课题组合作,揭示了痕量氧在增强石墨烯边缘与Cu(111)衬底相互作用、消除石墨烯30°转角孪晶等方面的作用,利用痕量氧修饰石墨烯边缘,实现了高取向一致度(99.9%)石墨烯的批量生长。

    2022年1月5日 科研进展
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  • 化学所有机固体实验室于贵课题组在石墨烯纳米带制备研究方面取得新进展

    该课题组和清华大学徐志平团队合作通过调控化学气相沉积过程中的生长参数,直接在液态金属表面原位生长出大面积、高质量的石墨烯纳米带阵列。研究表明,将氢气的流速控制在一个相对微量的状态,同时以液态金属作为催化基底,可以引入一种新型的梳状刻蚀行为,从而调控石墨烯的生长。实验发现,利用梳状刻蚀控制石墨烯的生长,可以将传统的薄膜生长转化为准一维的线性生长,从而直接制备高质量、大面积的石墨烯纳米带阵列。通过优化生长条件,可以将石墨烯纳米带的宽度缩小至8 纳米,且长度大于3 微米。该工作为大面积、快速制备石墨烯纳米带的研究奠定了基础。

    2022年1月4日
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  • 中科院化学所刘云圻院士课题组《Adv. Mater.》:大面积电学均匀纯单层单晶石墨烯

    该研究团队人员采用循环电化学抛光与高温热退火相结合的循环处理的方法,有效的将商用多晶商业铜箔转化为单晶Cu(111),并对所制备大尺寸单晶Cu(111)箔进行了系列的形貌和晶面结构表征。

    2022年1月4日 科研进展
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  • 北京大学刘忠范院士团队Adv. Sci.:自支撑石墨烯织物薄膜,柔性红外伪装!

    在本文中,作者通过CVD技术成功制备出一种自支撑的石墨烯薄膜,即通过使用可蚀刻的织物衬底,成功获得大规模纸草状的自支撑石墨烯织物薄膜(FS-GFF)。

    2021年12月19日 科研进展
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  • Nano Res.│北京大学刘忠范团队:铜晶面对制备超洁净石墨烯的影响

    铜衬底作为制备石墨烯的常用衬底,对石墨烯的畴区尺寸、层数控制等发挥着不可忽视的作用。由于不同晶面结构对称性和催化活性等的差异,铜衬底不同晶面上石墨烯生长的基元步骤也有所不同。与此同时,铜晶面对石墨烯表面本征污染物形成的影响及其相关机理还有待探究。

    2021年12月14日 科研进展
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  • 济南大学逄金波-刘宏Adv. Mater. Technol.:晶圆级石墨烯的化学气相沉积法合成及其电子器件应用

    晶圆级石墨烯的合成及其应用,对硅半导体行业兼容的晶圆级器件集成,具有重要意义,然而很少有进展文章介绍这一课题。本文重点介绍了晶圆级石墨烯的合成策略、电子器件结构和新的器件应用概念的最近进展等。并在结语中提出了石墨烯合成和石墨烯基电子学的未来机遇。

    2021年12月8日 科研进展
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