化学气相沉积
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CVD生长晶圆用石墨烯的概述
在这篇博文中，Grolltex 将更详细地探讨 CVD 生成晶圆用石墨烯。
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Science | 畴区自校准融合制备晶圆级单晶六方氮化硼(hBN)
作者认为不同的圆形单晶畴区之间会因为库伦相互作用（路易斯酸B与路易斯碱N）而导致畴区旋转，这种神奇的运动要一直持续到畴区边缘找到合适的拼接晶向并无缝拼接才会停止，进从而形成整张单晶薄膜。
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【项目推介】年产10万平方米石墨烯薄膜项目
石墨烯薄膜是由单层或多层石墨烯构成的薄膜，可细分为单晶薄膜和多晶薄膜。单晶薄膜可用于制造集成电路，但目前尚未成功开发出单晶薄膜的工业化合成方法；多晶薄膜则有望在3-5年时间内实现产业化应用，可替代氧化铟锡（ITO）导电玻璃用于制造触摸屏。
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北京大学刘忠范院士课题组和彭海琳教授课题组发文介绍石墨烯化学气相沉积制备方法
针对高品质石墨烯薄膜的CVD制备与具体应用，课题组建立和发展了石墨烯单晶和薄膜的结构精确调控的多种CVD生长方法，并率先实现了4英寸无褶皱石墨烯单晶晶圆、大面积石墨烯薄膜的连续批量制备和绿色无损转移，研制了超级石墨烯玻璃、旋转双层石墨烯光电器件和单晶石墨烯PN结光电探测器件。
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刘忠范&彭海琳Chem. Rev.综述：化学气相沉积制备石墨烯–理想与现实
本综述主要介绍了碳材料的成键和制备历史，CVD法制备石墨烯的热力学过程与生长动力学机制，讨论了生长条件对石墨烯畴区尺寸、形貌、缺陷、生长速度、层数和质量的影响，并对高质量石墨烯材料的制备方法进行总结，展望了未来制备高质量石墨烯薄膜的研究。
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【制备专栏】化学气相沉积（CVD）技术梳理
CVD和PVD之间的区别主要是，CVD沉积过程要发生化学反应，属于气相化学生长过程，其具体是指利用气态或者蒸汽态的物质在固体表面上发生化学反应继而生成固态沉积物的工艺过程。简而言之，即通过将多种气体原料导入到反应室内,使其相互间发生化学反应生成新材料，最后沉积到基片体表面的过程。
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德国莱布尼茨固态与材料所ACS Nano：(半导体工艺兼容的)在氧化硅绝缘基底上直接生长的大面积均匀单层石墨烯
第一作者逄金波博士等利用10页正文和33页支撑材料的篇幅，向二维材料的研究人员和其他读者展示一个三明治结构的样品放置方式，来精确控制气源的引入，在绝缘基底上，实现石墨烯单层薄膜的自限制生长过程。本文系统地研究生长过程中的生长机理、时间依存以及晶畴长大过程中的融合成膜以及晶界的形成过程。
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绝对干货丨CVD法制备石墨烯的工艺流程详解
化学气相沉积法最早出现在二十世纪六十年代，主要用来制备高纯度、高性能的固体薄膜。石墨烯的化学气相沉积的原理是：将一种含碳的气态物质在高温和高真空的环境下，用氢气作为还原性气体，通入到炉内，生成石墨烯。
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理论研究揭示化学气相沉积法生长石墨烯的微观机理
一个明显令人困惑的问题是，既然氢气是石墨烯生长的副产物，为何需要在生长过程中额外添加氢气。这一问题至今仍没有合理的解释，因此了解氢气在石墨烯生长过程中所扮演的角色是理解整个CVD生长机理的关键所在。
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【客户巡礼（五十一）】日新高温客户巡礼——深圳市国创珈伟石墨烯科技有限公司
自石墨烯产业的浪潮迅速来临之际，合肥日新高温技术有限公司与深圳市国创珈伟石墨烯科技有限公司于2015年就石墨烯的制备双方展开了友好合作的关系，并成功研发出RSMXL系列石墨烯膨化炉，专门设计用于石墨烯中试生产线，用于粉状石墨烯制备，是企业大型生产中最理想化的选择。
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二维碳素：专利打开石墨烯应用新市场
“技术研发能力是二维碳素的核心竞争力，专利就是保护公司创新成果的有力武器。”二维碳素总裁金虎表示，以应用为导向开发石墨烯产品是公司的技术研发理念，以此为指引，二维碳素已在石墨烯应用领域走在了国内企业前列。石墨烯属于新兴行业，二维碳素高度重视专利储备，力图为今后更好地参与市场竞争打好基础。
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【海外访学讲堂】李雪松：眼界越高远 人生越精彩
2014年Google Scholar的统计显示，李雪松作为第一作者发表在2009年《科学》上的关于石墨烯制备的文章，在所有同期刊文章中引用次数排名第二，在所有发表在《科学》和《自然》（Nature）的文章中排名第三。这一发明还获得了美国半导体研究联盟（Semiconductor Research Corporation）“发明家成就奖”、被《科学》列为“2009年重大科技突破”之一，并且在2010年诺贝尔奖获奖演讲中被重点引述。
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Triton 基金宣布对 GrollTex 进行种子轮投资
“GrollTex公司看起来已经破解了这一难题。该公司已经开发出一种对环境无害的工艺，可以生长出与传统制造工艺具有相同特性的石墨烯。如果我们能将这项技术商业化，这将是一个巨大的市场，”Triton 基金和 Vertical Venture Partners 的董事总经理大卫-施瓦布（David Schwab）说。
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加州大学圣地亚哥分校学生迎接挑战：为市场制造石墨烯
Zaretski 决心继续这个研究项目，于是来到加州大学圣地亚哥分校攻读纳米工程硕士学位。在纳米工程学教授达伦-利波米（Darren Lipomi）的指导下，Zaretski 开发了一种在铜基底上生长石墨烯并覆盖一层镍的方法。由于石墨烯与镍的粘附性比与铜的粘附性更好，因此整个石墨烯单层可以很容易地被移除，并在大面积上保持完好无损。
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研究人员利用石墨烯创造出有史以来最小的纳米结构间隙
一旦金/石墨烯复合材料与铜基板分离，石墨烯层新暴露的一面就会与另一块金片夹在一起，生成金/单层石墨烯/金薄膜。然后将薄膜切成 150 纳米宽的纳米结构。最后，用氧等离子体处理这些结构以去除石墨烯。这些结构的扫描电子显微照片显示，金层之间存在极小的纳米间隙。
