Adisyn 完成以色列 ALD 系统安装

Beneq TFS 200型号配备定制化功能,包括用于晶圆表面处理的等离子体选项、用于石墨烯生长的反应性气体引入系统,以及半自动装载和锁定装置以实现样品交换。其反应室适用于晶圆级加工,这对推进该公司专有的低温石墨烯沉积工艺至关重要。该工艺旨在突破半导体互连技术中的性能瓶颈。

2D Generation 通过先进技术提升 Jan Koum 中心的研究能力。

Adisyn(ASX: AI1)的子公司 2D Generation 已完成在以色列 Jan Koum 纳米科学与纳米技术中心安装、调试和校准 Beneq TFS 200 原子层沉积(ALD)系统的全部工作。该项目是该中心为满足 ALD 基研究的精密需求而进行的基础设施升级的一部分。Adisyn 专注于开发和商业化创新技术解决方案。其子公司 2D Generation 致力于推动石墨烯在半导体领域的应用。

Beneq TFS 200型号配备定制化功能,包括用于晶圆表面处理的等离子体选项、用于石墨烯生长的反应性气体引入系统,以及半自动装载和锁定装置以实现样品交换。其反应室适用于晶圆级加工,这对推进该公司专有的低温石墨烯沉积工艺至关重要。该工艺旨在突破半导体互连技术中的性能瓶颈。

该ALD系统将与特拉维夫大学研究机构内现有的Beneq TFS 200系统并行运行。这种双系统配置将使2D Generation能够进行并行测试,并加速在不同基底和运行条件下对石墨烯薄膜的验证。随着两套系统均已投入运行,该公司计划验证先前技术成果并深化对可扩展工艺的理解。

Adisyn董事长凯文·克罗夫顿(Kevin Crofton)表示,新ALD系统的投产标志着公司运营能力的重大提升。他补充称,该平台的精准度与灵活性将支持其在实际半导体环境下对石墨烯互连解决方案进行严苛测试。双平台架构将加速研发进程、验证性能,并为商业应用奠定坚实基础。

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