剑桥郡索默沙姆 [2025 年 2 月 6 日] – Paragraf 是一家英国公司，率先采用标准半导体工艺批量生产基于石墨烯的电子产品，该公司获得了英国创新署（Innovate UK）419419 英镑的资助，用于生产新型半导体存储技术的概念验证原型，该技术采用了一类新型铁电材料，并在硅平台上辅以石墨烯。
剑桥大学材料科学与冶金学系 Judith Driscoll 教授的研究小组也将获得 299,198 英镑的联合资助，用于开发在 Paragraf 的无转移石墨烯上沉积铁电材料的工艺，以生产新型存储器件，包括石墨烯-铁电场效应晶体管 (G-FeFET)。与现有的存储设备技术相比，这有望节省大量电力，而这正是数据中心和消费设备节省电力以支持人工智能革命的关键所在。
Driscoll 教授说：”在这样一个重要项目上与 Paragraf 合作是一个令人兴奋的前景，特别是考虑到他们与本系的联系。“有机会在剑桥开发如此重要的下一代存储设备，而且这家公司与剑桥有着如此深厚的渊源，这对于保持剑桥地区乃至英国在 21 世纪科技产业中的领先地位非常重要。
总部位于剑桥郡的 Paragraf 公司专有的石墨烯沉积工艺最初是在剑桥大学材料科学系开发的，当时公司现任首席执行官西蒙-托马斯（Simon Thomas）还是一名研究员，师从 Paragraf 公司的另一位联合创始人兼首席科学官科林-汉弗莱斯爵士（Colin Humphreys）教授。从大学分拆出来后，公司在 Somersham 建立了第一家制造工厂，之后又在 Huntingdon 和加利福尼亚州圣迭戈增设了工厂。
“未来的计算和人工智能等领域将需要能够节约能源和减少热量输出的存储解决方案。石墨烯在满足这些要求方面具有得天独厚的优势，因此，与 Driscoll 教授的天才科学家团队共同开发这些设备至关重要，”Paragraf 首席执行官西蒙-托马斯（Simon Thomas）说。“我们感到鼓舞的是，英国具有足够的前瞻性，认识到了这一巨大的机遇并进行了相应的投资。
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