烯玺科技申请多层石墨烯膜晶格缺陷修复方法专利，修复多层石墨烯膜的晶格缺陷

国家知识产权局信息显示，烯玺科技（常熟）有限公司申请一项名为“一种多层石墨烯膜的晶格缺陷修复方法”的专利，公开号CN122957829A，申请日期为2025年4月。

专利摘要显示，本发明公开了一种多层石墨烯膜的晶格缺陷修复方法，包括以下步骤：S1、将用CVD法生长的多层石墨烯放入管式炉，通入氩氢混合气，气压保持1‑10Torr，升温至300‑600℃；S2、打开等离子源，功率50‑200W，保持1‑10分钟；S3、关闭等离子源，在相同气氛和压力下，升温至800‑1000℃；S4、通入碳源气体，保温30‑300分钟；S5、关闭碳源气体，在氩氢混合气氛围下，气压保持1‑10Torr，降温至室温，取出样品；S6、将样品放入石墨电阻辐射加热炉；S7、炉中通入氩氢混合气，气压保持1‑10Torr；S8、将炉体温度升高至2500‑3000℃后，保温60‑300分钟；S9、在氩氢混合气中，保持原有气压，缓慢降温至室温，取出样品。

天眼查资料显示，烯玺科技（常熟）有限公司，成立于2025年，位于苏州市，是一家以从事专业技术服务业为主的企业。企业注册资本200万人民币。通过天眼查大数据分析，烯玺科技（常熟）有限公司拥有行政许可2个。

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