- Adisyn达成首项石墨烯技术里程碑
- 独立验证降低技术风险
- 焦点从验证转向规模化
特别报道：Adisyn通过独立验证的低温沉积技术成功跨越首个实际石墨烯技术障碍，有效降低技术风险。
Adisyn（ASX:AI1）在石墨烯研发征程中完成关键阶段性目标，该公司利用原子层沉积（ALD）系统成功实现基于sp2键合的碳层低温沉积。
更重要的是，该成果已通过独立验证，标志着其收购2D Generation Ltd（2DG）的股份买卖协议（SPA）中第一阶段里程碑的正式达成。
简言之，该里程碑成果可应用于实际芯片制造。
第一阶段里程碑的核心在于验证Adisyn能否通过ALD系统在低温条件下沉积sp2碳层。
该材料沉积于铜基底——半导体制造中的常见基材。
沉积过程在低于300°C的温度下完成，并通过拉曼光谱技术确认了材料结构。
其中包括识别出表明sp2碳键合的特征G 峰和D 峰。
尽管演示温度低于300°C的里程碑要求，Adisyn强调关键在于开发低于半导体行业450°C热极限的工艺。
温度限制的深层意义
该温度约束绝非小事。
董事会认为此项成果至关重要，因为温度兼容性是将石墨烯及相关材料整合至现有半导体制造工艺的核心限制因素。
验证该沉积工艺的可行性，是实现工艺整合与规模化生产的重要里程碑。
此举同时降低了Adisyn石墨烯研发计划的技术风险。
Adisyn非执行董事长Kevin Crofton表示：“里程碑1的达成标志着二维石墨烯技术研发取得实质性进展。”
独立验证确保成果可靠
根据《股份购买协议》规定，每个里程碑的达成均须经由澳大利亚或以色列知名技术大学的合格教授进行独立验证，该教授由Adisyn董事会任命。
本案中，特拉维夫大学精确科学学院的Yoram Selzer教授完成了对成果的独立技术审查与评估，并正式以书面形式确认第一里程碑已达成。
Selzer教授是化学家兼材料科学家，专业领域涵盖表面科学、纳米材料及薄膜表征技术。
他同时精通先进光谱分析技术，包括与石墨烯及相关材料相关的拉曼光谱分析。
其评估结果为技术成果提供了独立第三方验证。
收到Selzer教授的确认函后，Adisyn董事会审议评估结果，并依据股权转让协议条款批准达成第一阶段里程碑。
Crofton表示：“关键在于，该成果已获得具备资质的学术专家独立验证，使董事会对迄今取得的技术进展充满信心。”
他补充道：“低温沉积是半导体应用的关键要求，该成果为公司未来一年推进研发计划奠定了坚实基础。”
迈向新阶段
随着低温沉积技术获得独立验证，Adisyn将进入石墨烯沉积研发计划的下一阶段。
未来数月，Adisyn与2DG计划使用更广泛的碳基源材料开展更多石墨烯沉积测试。
团队将持续优化沉积前期的准备步骤，
同时精细调整关键沉积参数，包括等离子功率、气体流量、压力及温度。
最终将对沉积薄膜进行表征分析，评估其结构、晶体质量及电学特性。
这些结果将通过迭代优化，最终形成可重复且可扩展的石墨烯生长工艺。
从验证到可重复性与规模化
与此同时，Adisyn将继续与国际研究伙伴（包括特拉维夫大学及其他半导体研究团队）开展合作。
该工作将支持小样本材料的广泛测试，若结果积极，还将推进至整晶圆规模测试。
公司表示仍遵循此前披露的研发路线图。
综上所述，里程碑1的达成并非终点，但确实消除了关键的技术不确定性。
低温石墨烯沉积技术已实现并获得独立验证，使Adisyn的研发重心从单纯的概念验证转向工艺优化。
下一步将聚焦工艺精炼、可靠性验证及符合半导体行业实际需求的规模化应用。
本文系与Adisyn合作撰写，发布时该公司为Stockhead广告客户。
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本文来自the australian，本文观点不代表石墨烯网立场，转载请联系原作者。
