研究前沿:转角石墨烯-无机组装 | Nature Electronics

在更苛刻的环境条件(与聚合物不相容)时(例如在高达600℃的温度时),在有机溶剂中和在超高真空中,无聚合物载体用以制造异质结构。所得到的异质结构,具有没有层间污染的高质量界面,并且表现出较强的电子和光电行为。基于该项技术,在超高真空中组装了转角石墨烯异质结构,与传统转移技术相比,莫尔超晶格的均匀性提高了十倍。

范德瓦耳斯Van der Waals异质结构是由单个二维材料层层组装而成的,可用于制造各种电子器件。然而,目前组装技术,通常使用聚合物载体,这限制了这种器件的清洁度,从而限制了其电子性能。

近日,英国 曼彻斯特大学(The University of Manchester)Wendong Wang, Nicholas Clark, Matthew Hamer, Amy Carl,Alex Summerfield & Roman Gorbachev等,在Nature Electronics上发文,报道了一种无聚合物制备技术,主要使用柔性氮化硅膜组装范德瓦尔斯异质结构。

在更苛刻的环境条件(与聚合物不相容)时(例如在高达600℃的温度时),在有机溶剂中和在超高真空中,无聚合物载体用以制造异质结构。所得到的异质结构,具有没有层间污染的高质量界面,并且表现出较强的电子和光电行为。

基于该项技术,在超高真空中组装了转角石墨烯异质结构,与传统转移技术相比,莫尔超晶格的均匀性提高了十倍。

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Clean assembly of van der Waals heterostructures using silicon nitride membranes.
基于氮化硅膜,范德瓦尔斯异质结构的清洁组件。

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图1:范德瓦耳斯Van der Waals,vDW异质结构的无机组装。

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图2:基于完全无机转移技术,在空气和氩气中组装的异质结构。

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图3:范德瓦耳斯vDW异质结构的超高真空组装。

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图4: 基于化学气相沉积chemical vapour deposition,CVD生长,二维2D材料的大面积转移。

文献链接

Wang, W., Clark, N., Hamer, M. et al. Clean assembly of van der Waals heterostructures using silicon nitride membranes. Nat Electron (2023).
https://doi.org/10.1038/s41928-023-01075-y
https://www.nature.com/articles/s41928-023-01075-y
本文译自Nature。

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