西班牙巴塞罗那科学技术学院《Science》:在双层石墨烯中调控谷选择霍尔效应

本文,西班牙巴塞罗那科学技术学院Frank H. L. Koppens、Jianbo Yin等研究人员在《Science》期刊发表名为“Tunable and giant valley-selective Hall effect in gapped bilayer graphene”的论文,研究报道在能够调节能带的双层石墨烯材料中,能够设计电子的结构状态、电子的运动,为发展新型高性能开关和检测器等光电器件提供机会。

成果简介

石墨烯、过渡金属硫化物等二维Dirac材料目前受到广泛关注,此类材料中能够形成新型拓扑效应和几何量子效应,材料电子结构能够产生多种极值或者谷结构,因此提供更多的谷自由度,因此载流子在其中传输过程中能够进行各种奇异电子结构的调节。本文,西班牙巴塞罗那科学技术学院Frank H. L. Koppens、Jianbo Yin等研究人员在《Science》期刊发表名为“Tunable and giant valley-selective Hall effect in gapped bilayer graphene”的论文,研究报道在能够调节能带的双层石墨烯材料中,能够设计电子的结构状态、电子的运动,为发展新型高性能开关和检测器等光电器件提供机会。

贝里(Berry)曲率在动量空间中的表现形式与磁场非常类似,Berry曲率普遍存在于具有奇异量子几何态的材料中,通过Berry曲率能够使得具有异常横向速度的Bloch电子形成类似霍尔效应的电流(Hall-like current),甚至在没有磁场条件就能形成这种类霍尔电流。

作者直接原位观测到可调谐的谷选择霍尔效应VSHE(tunable valley-selective Hall effect),其反演对称性和相应的电子的几何相位能够通过面外电场调控。通过中红外圆偏振光照射高质量双层石墨烯,验证发现在光照诱导的谷产生霍尔电压。与MoS2相比,这种双层石墨烯产生强度提高了一个数量级的VSHE效应。这是因为Berry曲率的数值变化与能带大小变化的规律相反。通过观测谷选择性霍尔导电性的变化情况,研究了Berry曲率随着能带变化的规律。这种原位控制VSHE效应为发展拓扑光电器件、量子立体光电器件提供机会

图文导读

西班牙巴塞罗那科学技术学院《Science》:在双层石墨烯中调控谷选择霍尔效应

图1。GBG中由可调贝里曲率驱动的谷选择性霍尔效应。

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图2。激子态和间隙依赖性VH

西班牙巴塞罗那科学技术学院《Science》:在双层石墨烯中调控谷选择霍尔效应

图3。σH的演化。

文献:DOI: 10.1126/science.abl4266

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