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利用气态化合物或化合物的混合物在基体受热面上发生化学反应,从而在基体表面上生成不挥发涂层的一种薄膜材料制备系统,它由管式炉,质量流量控制系统和真空控制系统组成。适用于CVD工艺,如碳化硅镀膜、石墨烯材料生长、二维材料生长、ZnO纳米结构的可控生长、陶瓷电容(MLCC)气氛烧结等实验。

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