狄增峰
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先“长”再“撕”然后“贴” 石墨烯辅助电极转印“三步走”
近日,中国科学院上海微系统与信息技术研究所信息功能材料国家重点实验室研究员狄增峰团队,开发出一种石墨烯辅助金属电极转印技术。该技术以锗基石墨烯晶圆作为预沉积衬底“生长”金属电极阵列,并利用石墨烯与金属间较弱的范德华作用力(一种分子间作用力),实现了任意金属电极阵列的“撕下来”和“贴上去”——无损转移,且转移成功率达到100%。
近日,中国科学院上海微系统与信息技术研究所信息功能材料国家重点实验室研究员狄增峰团队,开发出一种石墨烯辅助金属电极转印技术。该技术以锗基石墨烯晶圆作为预沉积衬底“生长”金属电极阵列,并利用石墨烯与金属间较弱的范德华作用力(一种分子间作用力),实现了任意金属电极阵列的“撕下来”和“贴上去”——无损转移,且转移成功率达到100%。
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