丁宝福
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中国科学院深圳先进技术研究院丁宝福团队AFM:基于氟化石墨烯液晶的深紫外电光调制器
本研究采用温和的液相剥离技术,成功制备了一系列的二维氟化石墨烯材料。该方法在保持材料的高几何各向异性比(>103)的同时,有效抑制了剥离过程中的脱氟与氧化(图1)。氟化石墨烯氟碳比最高为1.12,其光学带隙高达5.5 eV,有效确保其在220-400 nm深紫外波段透光率高于50%。
本研究采用温和的液相剥离技术,成功制备了一系列的二维氟化石墨烯材料。该方法在保持材料的高几何各向异性比(>103)的同时,有效抑制了剥离过程中的脱氟与氧化(图1)。氟化石墨烯氟碳比最高为1.12,其光学带隙高达5.5 eV,有效确保其在220-400 nm深紫外波段透光率高于50%。
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