分离阻隔

双方围绕石墨烯制备与转移技术、潜在应用方向与合作场景等进行了务实探讨。期间，岸敦史所长一行实地参观了BGI展厅、产业化大楼等，深入了解了院司建设发展、材料研发、产品创新以及产业化落地情况。

利用全原子分子动力学模拟和自由能计算，系统揭示了多层Janus石墨烯纳米孔中层间耦合对离子传输的调控机制，发现了熵效应在稳定能谷及促进离子定向迁移中的关键作用，为高性能纳米流体器件的设计提供了新的热力学理论依据。

作者利用孔边缘功能基团的异质性来调控孔隙限制直径（PLD）。通过简单的热退火处理，可以将孔边缘的伯胺基团转化为晶格掺入的氮。转化程度随温度变化，从而调控胺-CO₂复合物产生的空间位阻，并进而调节PLD，以利于O₂的渗透。

我们开发了一种基于rGO的理性设计氧气阻隔屏障，将其应用于石墨负极，有效缓解了LRMO全电池中氧气穿透引起的性能衰减。该rGO屏蔽层展现出三重功能：(1) 通过立体位阻实现选择性氧气阻隔（层间距：0.32–0.34 nm）；(2) 通过边缘缺陷维持锂离子渗透性；(3) 通过抑制寄生氧-电解质反应增强界面稳定性。

Hollowgraf源自Rahul Raveendran Nair教授领导的石墨烯膜研究团队，该团队在石墨烯分离过滤膜领域享有国际声誉。在此基础上，团队申请了一项创新性专利技术，该技术利用大气二氧化碳或烟气驱动海水淡化与资源回收过程。为加速实际应用，团队成立Hollowgraf有限公司推动技术商业化。

围绕这些问题，科研工作者提出了诸多改性策略（如GO部分还原、共价交联、纳米颗粒掺杂），虽能一定程度抑制溶胀、提升选择性，但往往以牺牲通量为代价。近年研究发现，非晶纳米材料因缺陷丰富、活性位点多、结构柔性强，可显著提升离子扩散能力，为解决上述矛盾提供新思路。基于此，本工作提出将非晶Ni (OH)2纳米片与GO复合，通过协同调控层结构与表面性质，同步实现高通量与高选择性。