转移转印

该技术通过在衬底表面引入水汽分子，实现2DMs从衬底的清洁、均匀剥离，能够灵活地制备扭曲异质结构。利用该技术，研究团队成功制备了具有高质量界面的扭曲单层/少层石墨烯和类准晶结构的WS₂/MoS₂异质结构。此外，还制备了悬浮结构，为研究其本征物理性质提供了便利。